Laboratory


Infrastructural background

Test structures are fabricated by micromechanical technologies of the MTA EK MFA MEMS Laboratory enabling 3D structuring of conventional silicon and polimer materials also. Nanoscale processing is also applicable using the nanofabrication infrastructure of the institute.
  • Full MEMS silicon processing line with 1micron resolution lithography
  • Electron Beam Lithography (Raith 150 E-BEAM with cca. 10nm resolution)
  • Focused Ion Beam processing (Zeiss LEO XB-1540 FESEM and nanoprocessing system with cca. 10nm resolution)
  • Microfluidic characterisation laboratory

Infrastrukturális háttér

A tesztstruktúrákat a MTA EK MFA MEMS Laboratóriumának mikromechanikai megmunkáló sorára alapozott technológiákkal valósítjuk meg, amelyek lehetővé teszik hagyományos szilícium és polimer alapú szerkezetek mikrométer felbontású 3D megmunkálását. Az esetleges nanostrukturálási feladatokat az intézetben elérhető nanofabrikációs eljárásokkal.
  • A teljes MEMS technológiai lehetőségeket felölelő szilícium megmunkáló sor 1mikron felbontású litográfiával
  • Elektronsugaras litográfia (Raith 150 E-BEAM kb. 10nm-es felbontással)
  • Fókuszált ionsugaras megmunkálás (Zeiss LEO XB-1540 FESEM és nanomegmunkáló rendszer kb. 10nm-es felbontással)
  • Mikrofluidikai karakterizációs laboratórium